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1、加料时应根据坩埚溶量，不可加料太多，太紧避免膨胀坩埚。

2、出炉工具和坩夹要符合坩埚外形，夹其中部避免局部受力损坏坩埚。

3、清除坩埚内外壁溶渣和粘焦时应轻敲避免损坏坩埚。

4、坩埚与炉壁之间应保持适当距离，坩埚应放在炉内正中。

5、使用过量助燃剂、添加剂将减少坩埚使用寿命。

6、使用过程中，每周将坩埚转动一次，可延长坩埚使用寿命。

7、避免强氧化火焰直喷坩埚侧面和底砣。

坩埚的使用注意事项：

1、坩埚可在1450度以下使用，分透明和不透明两种。其原料里杂质在生产时高温熔制过程中产生黑点气泡等对拉制单晶硅时其稳定性都有一定影响。用电弧法制的半透明坩埚是拉制大直径单晶硅，发展大规模集成电路***的基础材料。当今，世界半导体工业发达国家已用此坩埚取代了小的透明坩埚。他具有高纯度、耐温性强、尺寸大精度高、保温性好、节约能源、质量稳定等优点。

2、石英质脆，易破，使用时要注意。

3、除HF外，普通稀无机酸可用作清洗液。否则火焰的前进会受到阻碍而使火焰方向发生偏转，从而造成坩埚局部受热过度，在坩埚壁上发生氧化或产生小洞。国内常用拉制单晶硅用石英坩埚18英寸和20英寸也有厂家使用22及以上的坩埚。目前国内坩埚生产厂家生产的18和20英寸坩埚技术都比较成熟。其生产使用原料石英砂主要由美国进口。国内产的石英砂纯度都达不到其要求。其原料里杂质在生产时高温熔制过程中产生黑点气泡等 对拉制单晶硅时其稳定性都有一定影响。

4、不能和HF接触，高温时，极易和苛性碱及碱金属的碳酸盐作用。