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坩埚使用注意事项：

注意不要给机械带来外力撞击，更不要从高处落下或撞击。不能够被水淋湿，这种石墨坩埚需要保存在干燥的地方。在筑熔干燥后不能使其接触到水。使用期间不能够将火焰等直接对准坩埚，如果喷到，坩埚底部会出现明显的黑色痕迹。在停止使用之后要将剩余的材料尽量取出，坩埚内不能留有残液。像是除渣剂等在使用中要适量，防止侵蚀坩埚，过量使用会导致坩埚发生裂。坩埚夹钳的尺寸必须和坩埚大小相匹配，且夹钳内部必须全部接触坩埚2。

坩埚的使用注意事项：

1、坩埚可在1450度以下使用，分透明和不透明两种。用电弧法制的半透明坩埚是拉制大直径单晶硅，发展大规模集成电路***的基础材料。当今，世界半导体工业发达国家已用此坩埚取代了小的透明坩埚。他具有高纯度、耐温性强、尺寸大精度高、保温性好、节约能源、质量稳定等优点。目前，国内石英坩埚生产企业生产中使用的生产设备及工艺技术全部源于上世纪70年代初锦州155厂从日本引进的生产设备及工艺技术，该项技术设备自动化程度不高，整个生产过程中更多的依靠人工来实现，现在国内新上的坩埚生产设备都已经往自动化发展。

2、石英质脆，易破，使用时要注意。

3、除HF外，普通稀无机酸可用作清洗液。国内常用拉制单晶硅用石英坩埚18英寸和20英寸也有厂家使用22及以上的坩埚。目前国内坩埚生产厂家生产的18和20英寸坩埚技术都比较成熟。其生产使用原料石英砂主要由美国进口。国内产的石英砂纯度都达不到其要求。其原料里杂质在生产时高温熔制过程中产生黑点气泡等 对拉制单晶硅时其稳定性都有一定影响。高热传导性:高含量的固定碳保证了良好的热传导性,缩短溶解时间,并显着地降低了耗油量或其他能耗。

4、不能和HF接触，高温时，极易和苛性碱及碱金属的碳酸盐作用。